




uv光解法利用uv光解净化设备发出的高能uv紫外线光束照射恶臭气体,裂解h2s、---物、voc类、---、、二的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如co2、h2o等。利用高能uv光束裂解恶臭气体中---的分子键,废气处理装置,破坏---的---(dna),再通过臭氧进行氧化反应,达到脱臭及杀灭---的目的。 有的时候,单一的工艺不能的解决,会用到组合工艺,比如催化燃烧+uv光解,催化燃烧+等离子。具体的工艺操作还需要根据现场的实际探查结果为准。

活性炭吸附治理工业废气工艺流程
吸附现象是发生在两个不同的相界面的现象,吸附过程就是在界面上的扩散过程,是发生在固体表面的吸附,这是由于固体表面存在着剩余的吸引而引起的。吸附可分为物理吸附和化学吸附;物理吸附亦称范德华吸附,是由于吸附剂与吸附质分子之间的静电力或范德华引力导致物理吸附引起的,当固体和气体之间的分子引力大于气体分子之间的引力时,即使气体的压力低于与操作温度相对应和饱和蒸气压,气体分子也会冷凝在固体表面上,物理吸附是一种吸热过程。
化学吸附亦称活性吸附,是由于吸附剂表面与吸附质分子间的化学反应力导致化学吸附,它涉及分子中化学键的破坏和重新结合,因此,化学吸附过程的吸附热较物理吸附过程大。在吸附过程中,物理吸附和化学吸附之间没有严格的界限,废气处理公司,同一物质在较低温度下往往是化学吸附。活性炭纤维吸附以物理吸附为主,但由于表面活性剂的存在,武汉废气处理,也有一定的化学吸附作用。
低温等离子废气处理设备的技术机理:
等离子体去---臭是通过两个途径实现的:一个是在高能电子的瞬间是高能量作用下,打开某些有害气体分子的化学键,使其直接分解成单质原子或无害分子另一个是在大量高能电子、离子、激发态粒子和氧自由基、氢氧自由基(自由基因带有不成对电子而具有很强的活性)等作用下的氧化分解成无害产物。主要有下面几个过程:
1、在高能电子作用下,强氧化性自由基o、oh、oh2的产生
2、有机物分子受到高能电子碰撞被激发,及原子键断裂形成小碎片基团和原子
3、o、oh、ho2与激发原子、有机物分子、废气处理公司破碎的基团、其他自由基等发生一系列反应,废气处理工艺,有机物分子终被氧化降解为co、co2、h2o。去除率的高低与电子能量和有机物分子结合键能的大小有关。
从除臭机理---析,主要发生以下反应:
h2o+o2、o2-、o2+——so3+h2o
nh3+o2、o2-、o2+——nox+h2o
h2s去除率可达91.9%,nh3去除率可达93.4%,臭气浓度去除率可达93.6%。
从上述反应来看,恶臭组分经过处理后,转变为nox、so2、co2、h2o等小分子,在一定的浓度下,各种反应的转化率均在95%以上,而且恶臭浓度较低,因此产物的浓度极低,均能被周边的---所接受。

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